專利申請的常見的六大坑（千萬別踩坑）

專利技術(shù)是企業(yè)參與市場競爭、謀求長遠(yuǎn)發(fā)展、形成競爭優(yōu)勢的利器。隨著知識產(chǎn)權(quán)意識的覺醒，越來越多的企業(yè)開始意識到專利在市場競爭中的巨大作用。并開始重視專利權(quán)的戰(zhàn)略布局、管理和保護(hù)。專利申請中有哪些錯誤？

誤解一、獨(dú)立研發(fā)技術(shù)無需申請專利即可擁有知識產(chǎn)權(quán)。

事實(shí)上，應(yīng)該很少有人有這種誤解。獨(dú)立開發(fā)的新技術(shù)不申請專利。如果這項(xiàng)技術(shù)被其他人發(fā)現(xiàn)或理解，其他人偶然申請專利，那么不要說你不能擁有這項(xiàng)技術(shù)的獨(dú)立知識產(chǎn)權(quán)，你可能會被指控侵權(quán)。

誤解二、新產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后才申請專利

大多數(shù)陷入這種誤解的人認(rèn)為新技術(shù)方案可能無法在市場上立足。如果申請專利，技術(shù)方案就無法實(shí)施，浪費(fèi)了人力、物力和財(cái)力。因此，他們正在考慮在大規(guī)模實(shí)施技術(shù)方案和形成新產(chǎn)品后申請專利。

誤解三、沒有必要為改進(jìn)專利產(chǎn)品申請專利

落入這個(gè)誤區(qū)的后果與不申請專利的后果沒有什么不同。因?yàn)楫?dāng)其他人改進(jìn)產(chǎn)品并申請專利時(shí)，反過來又限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的續(xù)展，這將導(dǎo)致原專利權(quán)人無意中成為侵權(quán)人。

誤解四、一項(xiàng)技術(shù)成果只能申請一種專利

中國專利法規(guī)定專利類型分為發(fā)明專利、實(shí)用新型專利和外觀專利。一些技術(shù)成果可以同時(shí)申請多項(xiàng)專利。例如，一個(gè)技術(shù)方案可以同時(shí)申請實(shí)用新型專利和發(fā)明專利。目前，實(shí)用新型專利通?？梢栽?月至14個(gè)月內(nèi)頒發(fā)，發(fā)明專利需要2年以上。

誤解五、有了專利證書，就獲得了有效的專利權(quán)

在我國，實(shí)用新型專利和外觀設(shè)計(jì)專利不受實(shí)質(zhì)性審查。碰巧有人已經(jīng)申請了與你現(xiàn)在申請的專利相同的專利，但是只要沒有人提出異議，你仍然可以獲得該專利。

誤解六、技術(shù)方案不清楚

有些人認(rèn)為為機(jī)構(gòu)準(zhǔn)備一些信息就足夠了，他們會清楚地解釋技術(shù)方案。然而，這將不可避免地給專利代理人制作正式的專利申請文件帶來困難。如果不提及要點(diǎn)，那就更麻煩了。

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